Aunque fue fundada en 2021, durante los últimos cuatro años SiCarrier ha mantenido un perfil muy bajo. y es (como todas) una compañía estatal administrada por el Gobierno de Shenzhen.
SiCarrier se dedica a diseñar y fabricar equipos de fotolitografía y máquinas de procesado de obleas (léase las relacionadas con chips)
Recientemente en un de las tantas ferias locales, presentó soluciones que compiten abiertamente con la empresa neerlandesa ASML, la japonesa Tokyo Electron o la estadounidense Applied Materials y es del todo llamativo que una compañía con un recorrido de apenas cuatro años ya tenga propuestas capaces de competir en el mercado de los equipos de fabricación de chips.
El equipo de trabajo principal está liderado por ingenieros con más de dos décadas de experiencia en las filas de ASML y Applied Materials.
De hecho, estos técnicos son con toda seguridad los responsables del hito por el que SiCarrier está probablemente en el punto de mira de la Administración estadounidense puesto que su tecnología utilizada por Huawei y SMIC para fabricar circuitos integrados de 7 nm deriva de una patente suya que persigue hacer posible la producción de chips de 5 nm empleando equipos de litografía de ultravioleta profundo (UVP).
El equipo de litografía más ambicionado por los fabricantes chinos de circuitos integrados es la máquina de litografía de ultravioleta extremo (UVE).
La neerlandesa ASML es la única compañía que las produce, pero las sanciones a China de EEUU le impiden entregársela a sus clientes chinos y este equipo es necesario para producir a gran escala y con un precio competitivo semiconductores de 7 nm o con tecnologías de integración todavía más avanzadas.
Es muy improbable que SiCarrier lo tenga, pero, al mismo tiempo, es razonable prever que sus ingenieros estarán trabajando en una máquina de estas características.
Los equipos que esta compañía ya ha dado a conocer, o, al menos, ha oficializado, son una máquina de litografía por inmersión de 28 nm, un equipo de grabado para nodos avanzados por debajo de los 7 nm, máquinas de difusión para procesamiento térmico rápido, equipos de deposición química de vapor para nodos de 28 a 5 nm, máquinas de verificación y test para circuitos integrados avanzados, etc.
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