Un equipo de avanzada de ingenieros, han completado en una planta en Shenzhen completó un prototipo de trabajo de una máquina EUV a principios de 2025, la cual ha sido construida por antiguos ingenieros de ASML.
La máquina EUV de China está siendo sometida a pruebas y no ha producido chips de trabajo, y según se reporta, el gobierno apunta a 2028 la primera producción, pero las fuentes dicen que 2030 es más probable.
Este proyecto se ha llevado a cabo en un laboratorio de alta seguridad de Shenzhen, donde científicos chinos la han construido y que con ello han logrado lo que EE.UU lleva años tratando de prevenir y es el avance de China en la fabricación de sus propios chips.
Un prototipo de una máquina capaz de producir los chips semiconductores de vanguardia que impulsan la inteligencia artificial, los teléfonos inteligentes y las armas centrales para el dominio militar occidental.
Imagen : Máquina de Litografia EUV – Chat GPT
Completado a principios de 2025 y ahora sometido a pruebas, el prototipo llena casi todo un piso de la fábrica.
Fue construido por un equipo de antiguos ingenieros del fabricante de semiconductores neerlandes ASML que efectuó labores de ingeniería inversa de las máquinas de litografía ultravioleta extrema de la compañía o EUV.
Las máquinas EUV usan rayos de luz ultravioleta extrema para grabar circuitos miles de veces más delgados que un cabello humano sobre obleas de silicio, actualmente una capacidad monopolizada por Occidente. Cuanto más pequeños son los circuitos, más potentes son los chips.
La máquina de China está operativa y genera con éxito luz ultravioleta extrema, pero aún no ha producido chips de trabajo aún.
En abril, el CEO de ASML, Christophe Fouquet, dijo que China necesitaría «muchos, muchos años» para desarrollar dicha tecnología. Pero la existencia de este prototipo, reportado por Reuters por primera vez, sugiere que China puede estar años más cerca de lograr la independencia de los semiconductores de lo que los analistas anticipaban.